資本業務提携情報

目的：クオルテックは先端半導体（GeO2半導体）の研究開発・製造・分析試験評価を行い、先端半導体（GeO2半導体）エピウエハ及び先端半導体（GeO2半導体）デバイスの研究開発を進め、先端半導体（GeO2半導体）エピウエハの早期供給実現を目指す。

実行年月：2023年12月

企業情報

企業名：Patentix株式会社

住所：滋賀県草津市野路東１丁目１番１号　立命館大学ＢＫＣインキュベータ

資本金：1,000千円

設立年月：2022年12月

事業内容：立命館大学発ベンチャー。超ワイドバンドギャップ半導体（UWBG）材料であるGeO2(二酸化ゲルマニウムを用いた半導体基板）・パワーデバイスの研究開発を進めている。

企業情報

企業名：株式会社クオルテック

住所：大阪府堺市堺区三宝町4丁230番地

資本金：3億9,210万円

設立年月：1993年1月

事業内容：「信頼性評価事業」において自動車、自動車部品、エレクトロニクスメーカー向けに半導体・電子部品の外部評価を提供している。パワー半導体モジュールに使われる各部材の接合信頼性を評価するパワーサイクル試験においては、自社で試験機の製造・販売も担っており、受託試験と合わせてお客様の開発効率の向上に貢献している。

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〜掲載内容〜
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【資金調達情報】調達額・ラウンド・増資の募集方式 ・調達先 など
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