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多能性®中間膜およびエピタキシャルの研究開発に取り組む株式会社GaianixxがシリーズBラウンドのセカンドクローズで3.5億円の資金調達を実施

資金調達情報

調達額:3.5億円

ラウンド:シリーズBラウンド セカンドクローズ

募集方式:第三者割当増資

調達先:JICベンチャー・グロース・ファンド2号投資事業有限責任組合
    アルコニックスグローバルイノベーションファンド投資事業有限責任組合
    SMBCベンチャーキャピタル7号投資事業有限責任組合

調達年月:2024年3月

過去資金調達記事

企業情報

企業名:株式会社Gaianixx

住所:東京都文京区本郷7-3-1東京大学 南研究棟アントレプレナーラボ

資本金:1億円

事業内容:基板と半導体膜の格子不整合を駆動力として双晶型マルテンサイト変態を生じ、格子不整合を緩和し上部半導体膜を高品質結晶化させるGaianixx独自の中間膜「多能性®中間膜」の研究開発を行う。また結晶基板の上に結晶成長を行い、下地の基板の結晶面にそろえて単結晶の薄膜を配列する成長機構「エピタキシャル」の研究開発にも取り組む。

設立年月:2021年11月


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